שאלה | סמנו את המשפטים הנכונים

סמנו את המשפטים הנכונים

		בתהליך CMOS סטנדרטי משתמשים בחומר בעל מקדם דיאלקטרי גבוה ליצירת COX וחומר בעל מקדם דיאלקטרי גבוה המשמש לILD
		בתהליך CMOS סטנדרטי משתמשים בחומר בעל מקדם דיאלקטרי נמוך ליצירת COX וחומר בעל מקדם דיאלקטרי גבוה המשמש לILD
		בתהליך CMOS סטנדרטי משתמשים בחומר בעל מקדם דיאלקטרי גבוה ליצירת COX וחומר בעל מקדם דיאלקטרי נמוך המשמש לILD
		בתהליך CMOS סטנדרטי משתמשים בחומר בעל מקדם דיאלקטרי נמוך ליצירת COX וחומר בעל מקדם דיאלקטרי נמוך המשמש לILD